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扬声器阵列尺寸对降噪效果的影响分析

时间:2023-06-22 理论教育 版权反馈
【摘要】:图3工作在Rc=800 m的不同尺寸的扬声器阵列的降噪区域分布图4图3中各扬声器阵列不做处理时(即方窗)在z=1 000 m处的降噪量图4说明了当扬声器阵列尺寸变大时,会同时增大降噪区域以及目标区域内的降噪量。这是由于直接截断未作处理,等同于对原始线声源加了方窗。方窗的陡峭边沿,会造成相对明显的频谱泄漏现象,从而导致了目标区域内的降噪量起伏。

扬声器阵列尺寸对降噪效果的影响分析

根据公式(7)设置的驱动函数,选择直接截断,即等效于加方窗,对于不同尺寸的线阵,在目标区域的降噪效果分布如图3所示。

如同2.2节所述,静音区域的大小直接由扬声器阵列的尺寸决定。扬声器阵列尺寸越大,就能在目标方向上越大的区域实现降噪效果。同时,图3也表明,对于尺寸更大的扬声器阵列,在目标方向上的总体降噪量也更显著。在Rc=800 m的工作距离下,由公式(8)可以给出最小尺寸为20 m。图3(a)所示的阵列尺寸小于最小尺寸,其控制效果不尽如人意,只有极小的降噪量;对于图3(b)所示的最小阵列尺寸,在目标方向上较大范围内产生了超过10 dB的降噪量,基本达到了构造静音区的目的;进一步扩大阵列尺寸,如图3(c)、(d)所示,降噪效果得到进一步提升,尽管这需要更多的扬声器来实现。为了方便直观地对比不同尺寸的扬声器阵列的噪声控制效果,选取图3中不同尺寸的扬声器阵列在z=1 000 m处(即图3中竖线所示)的降噪量作为对比,如图4所示。

图3 工作在Rc=800 m的不同尺寸的扬声器阵列的降噪区域分布

图4 图3中各扬声器阵列不做处理时(即方窗)在z=1 000 m处的降噪量(www.xing528.com)

图4说明了当扬声器阵列尺寸变大时,会同时增大降噪区域以及目标区域内的降噪量。但也应该注意到,目标方向上的降噪量出现了相对规律的起伏,并且这种起伏随着尺寸变大也更为显著。这是由于直接截断未作处理,等同于对原始线声源加了方窗。方窗的陡峭边沿,会造成相对明显的频谱泄漏现象,从而导致了目标区域内的降噪量起伏。另一方面,降噪量的起伏也可以看作是对线声源的截断,等效于在阵列两端额外加入了两个点声源,在目标区域内发生干涉,形成了类似“干涉条纹”的现象,从而导致了降噪量的起伏。因此,为了减小这种波动,可以在扬声器阵列两端额外布放两个声源以抵消等效声源的影响。实际中,更为简便易行的方式是更改加窗的方式,例如使用余弦窗,使得陡峭边沿变得平缓,以减小频谱泄露。本文中采取了余弦窗,对两端1/4扬声器做一个半汉宁窗,取得的效果如图5所示。

图5 图4中各扬声器阵列经过余弦窗后在z=1 000 m处的降噪量

通过加上余弦窗减小了频谱泄露,图5中的降噪量相比图4起伏变小,降噪量更多地分布在了目标方向上,对在目标方向上构建静音区具有明显优势。同时,从图3到图5,本文提出的FFD-ANC控制方法,在目标方向实现大范围的静音区的同时,能够保持在目标区域外的额外噪声增益不超过3 dB,防止了在目标方向之外产生较大不利影响,相对传统的局部有源噪声控制策略具有明显优势。

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