首页 理论教育 片上太阳能电池的最新发展

片上太阳能电池的最新发展

时间:2023-06-21 理论教育 版权反馈
【摘要】:通过标准CMOS工艺制备片上太阳能电池,可以使它与CMOS集成电路系统共享硅基设计,因此电源与电路系统可以高度集成在一块芯片上,可以实现一个自供电的微系统。图5.15光电二极管作为太阳能电池的负载线刘京京等详细研究了针对830 nm激光的标准0.25m CMOS三阱工艺的片上太阳能电池设计。图5.17展现了三种片上太阳能电池结构,金属导线通过高掺杂浓度的N+或P+实现P-N结之间的连接,因为掺杂浓度高具有更好的导电性能。

片上太阳能电池的最新发展

光电二极管在光照下,P端可以产生一个相对于N端的正电压,因此光电二极管除了可以探测光信号以外,还可以作为能量收集器件,将光能转化为电能,太阳能电池就是利用光电二极管实现的。通过标准CMOS工艺制备片上太阳能电池,可以使它与CMOS集成电路系统共享硅基设计,因此电源与电路系统可以高度集成在一块芯片上,可以实现一个自供电的微系统。该技术对于传感器的微型化具有十分重要的意义[1]。由式(5.4)可以得出光电二极管两端的电压V p d与流经负载的电流I L的函数:

在光照条件下,光电二极管在不同负载条件下的I-V特性曲线称为负载线,如图5.15所示。光电二极管作为太阳能电池提供的最大输出功率可以通过I×V的最大值得到,如图5.15中的阴影部分。

图5.14 单晶硅的光吸收系数和吸收深度曲线

我们以一个标准三阱(TripleWell)0.18µm CMOS(Comp lementary Metal Oxide Sem iconductor)工艺为例。芯片的衬底材料是P型硅(Psub),衬底内可以做出N型掺杂浓度较低的N阱(N-well)和深N阱(DN-well),也可以做出N型掺杂浓度较高的N+层和P型掺杂浓度较高的P+层。此外,在深N阱中可以做出P型掺杂浓度较低的P阱(Pwell)以及掺杂浓度较高的P+层。因此,在一个标准的三阱CMOS工艺中总共有6种P-N结,分别是N+/P-sub、P+/N-well、P+/DN-well,Nwell/P-sub,DN-well/P-sub和P-well/DN-well。图5.16中的粗线部分表示关注的P-N结,虚线部分表示寄生P-N结,即与关注的P-N结一同存在。不同P-N结具有不同的深度,深度浅的P-N结对于短波长光的量子效率高,深度深的P-N结对于长波长光的量子效率高。

图5.15 光电二极管作为太阳能电池的负载线

刘京京等详细研究了针对830 nm激光的标准0.25µm CMOS三阱工艺的片上太阳能电池设计。为了获得针对830 nm光源的各种P-N结的量子效率,我们首先设计了不同P-N结及组合,并进行了流片,包括[2]:N+/P-sub、N-well/P-sub、DN-well/P-sub、P-well/DNwell、2P-well/DN-well串联、3P-well/DN-well串联和2P+/N-well串联。单个P-N结在830 nm激光源照射下只能产生0.3~0.45V的电压(基于安全的考虑,最大激光输出功率为5mW),不足以驱动电路系统,所以设计了两个及三个P-N结的串联。

图5.17展现了三种片上太阳能电池结构,金属导线通过高掺杂浓度的N+或P+实现P-N结之间的连接,因为掺杂浓度高具有更好的导电性能。图5.17(a)是两个P-well/DN-well串联。第一个P-N结的DN-well接地,它的P-well就会产生一个P-N结的正电压,然后将第一个P-N结的P-well连接到第二个P-N结的DN-well,理论上第二个P-N结的P-well就会生成两个P-N结的正电压。图5.17(b)是N-well/P-sub和P-well/DN-well的串联。N-well会生成低于P-sub的一个P-N结电压(即负电压),P-well会生成高于P-sub的一个P-N结正电压(DN-well与P-sub短路),所以该组合可以生成两个P-N结的电压差。图5.17(c)是三个P-well/DN-well串联,理论上可以生成三个P-N结的正电压。

(www.xing528.com)

图5.16 标准三阱CMOS工艺中的6种可能P-N结结构的纵剖图

片上太阳能电池的芯片照片如图5.18所示,测试每个P-N结的负载线,并得到短路光电流,利用式(5.10)可以算出P-N结的量子效率。测试结果显示N+/P-sub、N-well/P-sub、DN-well/P-sub这三个P-N结产生的是负电压(P-sub接地),量子效率分别是1.68%、64.64%和70.46%。因为光源(830 nm)波长较长,所以越深的P-N结,量子效率就越高。P-well/DN-well、P+/N-well和P+/DN-well这三个P-N结能够生成正电压(N-well和DN-well接地),P-well/DN-well的量子效率会高于其他两个P-N结,但是也只有7.45%,这是因为830 nm激光的吸收深度比P-well/DN-well要深,寄生P-N结DN-well/P-sub吸收了大部分激光产生的电子-空穴对。

图5.17 片上太阳能电池结构图

图5.18 片上太阳能电池芯片照片

串联多个P-well/DN-well或者P+/N-well都生成0V电压,这是因为第一个P-N结里生成的空穴都被第二个P-N结的寄生P-N结中和了。例如:P-well/DN-well存在一个寄生DN-well/P-sub,后者对于波长较长的830 nm光子具有更强的吸收能力,因此在长波长光照射下,串联P-well/DN-well无法生成多倍的电压。如果光源是短波长,则该方法是有效的。最后选择了P-well/DN-well和N-well/P-sub串联组成片上太阳能电池,在光照条件下前者生成一个P-N结正电压,而后者生成一个P-N结负电压,两者之间就有两个P-N结的电压差,可以驱动一个电路系统。该片上太阳能电池测试的负载线如图5.19所示,照射的光强为79.45µW/mm 2。为了方便看图,N-well/P-sub的负载线以x轴为中心翻到了上面。N-well/P-sub的开路电压是0.503V(实际是-0.503V),P-well/DN-well的开路电压是0.464V,两个串联在一起的片上太阳能电池的开路电压是0.907V,基本是两者电压之和。该片上太阳能电池的光电转换效率约为3.5%。

图5.19 片上太阳能电池负载线测试结果

日本东京大学采用0.18µm的CMOS三阱工艺设计片上太阳能电池,测试了各种P-N结对白光LED的I-V曲线。在31000lx光强照射下,单个P-well/DN-well的开路电压是0.5V,短路电流是17.5µA;两个P-well/DN-well串联的开路电压是0.96V,短路电流是7µA;三个Pwell/DN-well串联的开路电压是1.3V,短路电流是3µA。前面讨论的结果是在830 nm激光照射下无法通过串联多个P-well/DN-well来提高电压,但是东京大学使用白光LED则可以实现,主要原因是在白光LED中,短波长的可见光占比大于红外线,所以P-well/DN-well的量子效率大于寄生P-N结DN-well/P-sub。虽然通过串联多个P-N结提高了电压,但是由于寄生P-N结导致漏电流,整体的光电转换效率随着串联的P-N结个数的增加而不断降低。香港科技大学也做了类似的工作,利用AMS 0.35µm CMOS工艺设计片上太阳能电池,采用卤灯作为光源。他们通过串联两个P+/N-well得到0.84V,串联三个P+/N-well得到了1.3V,但是两个串联的光电转换效率是0.3%,三个串联的效率只有0.06%。浅P-N结P+/N-well串联可以提高电压,这是因为该光源光谱主要集中在360~740 nm的短波长。韩国延世大学采用0.25µm CMOS工艺设计片上太阳能电池,同样也是采用卤灯作为光源。他们串联两个P-well/DN-well,并在太阳能电池上面加了滤光片。测试结果表明当滤掉大于600 nm波长的光时,串联结构才会起作用,得到双倍的P-N结电压。显然滤光片滤掉了长波长的光,也就是削弱了寄生P-N结DN-well/P-sub的影响,从而实现串联升压的效果,但是这也大大降低了光电转换效率,测试结果显示只有0.27%。

免责声明:以上内容源自网络,版权归原作者所有,如有侵犯您的原创版权请告知,我们将尽快删除相关内容。

我要反馈