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干涉膜的制备方法

时间:2023-06-22 理论教育 版权反馈
【摘要】:干涉膜的形成主要为化学方法和物理方法。主要形膜方法有真空蒸发镀膜和离子溅射镀膜。一般来说,物理形膜方法得到的干涉膜厚度不受基体组织结构的影响,是均厚膜,故组织中颜色的变化不如化学法敏感。表5-16 阳极试剂配方及用途表5-17 阴极试剂配方及用途表5-18 复合试剂配方与用途除了上述化学与物理形膜方法外,还有光学法。

干涉膜的制备方法

干涉膜的形成主要为化学方法和物理方法。

1.化学形膜方法 其薄膜的形成主要依赖于金属表面与试剂(或介质)之间的化学或电化学反应,反应速度和反应产物都受到金属显微区域中成分和组织结构的影响,因此在不同相的表面形成不同性质和不同厚度的薄膜,故具有优良的彩色衬度。

最常用的化学形膜方法是将试样置于特殊的试剂中浸蚀而形成薄膜,大多数试剂能形成硫化物、硫酸盐、钼酸盐、铬酸盐、亚硫酸盐、氧化物膜及含硒、铅、铬的复杂薄膜,并依据干涉膜在金属试样上沉积部位的不同,分为阳极试剂、阴极试剂和复合试剂三类。其中阴极试剂主要用于区分不同类型的碳化物;复合试剂则对阳极、阴极均起作用,应用面比较广泛。表5-16~表5-18分别列出了三类试剂的常用配方及用途。其他的化学形膜方法有表5-8中介绍的恒电位侵蚀法、表5-7中介绍的热染法和阳极氧化法,阳极氧化法在铝合金中应用最广泛。

2.物理形膜方法 主要用于化学稳定性极高的陶瓷材料以及化学性质相差悬殊的组合材料(如复合材料、硬质合金、涂层、双金属等),它们难以采用化学方法形膜,只能选用物理方法把选定的物质镀在金相试样表面。主要形膜方法有真空蒸发镀膜和离子溅射镀膜。前者是采用锌盐或其他盐类在真空下蒸发,沉积于抛光表面;后者则以试样为阳极,靶子材料(如Fe等)为阴极,抽真空后充以反应气体(如氧),从而使靶子材料溅射出的原子发生氧化,在样品表面形成氧化膜。一般来说,物理形膜方法得到的干涉膜厚度不受基体组织结构的影响,是均厚膜,故组织中颜色的变化不如化学法敏感。此外,物理形膜需要昂贵的设备,故只在特殊需要下采用。

表5-16 阳极试剂配方及用途

978-7-111-42950-0-Chapter05-71.jpg(www.xing528.com)

表5-17 阴极试剂配方及用途

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表5-18 复合试剂配方与用途

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除了上述化学与物理形膜方法外,还有光学法。光学法是指利用光学显微镜配备的各种光学附件(如偏振光、微差干涉装置等),使组织得到彩色显示。

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