纳米材料和结构的检测与表征

华中科技大学研究团队提出计算测量（computational metrology）基本思想，以广义椭偏仪纳米结构形貌参数测量为例，系统研究并解决了计算测量中的可测量性、误差分析与测量不确定度评估等基础科学问题与关键技术难题[226-228]。自主研制了覆盖深紫外到红外波长范围的宽光谱广义椭偏仪原理样机，性能及技术指标达到国际先进水平，适用于大面积纳米结构制造过程在线、精确测量。同时，自主研制出我国第一台高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪，发明了宽光谱消色差补偿器、仪器精密校准算法等核心部件与关键技术。自主研制的高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪已在比利时微电子研究中心等国内外10多家单位获得成功应用，打破了长期以来我国高端椭偏仪市场完全被国外企业垄断的局面，促使国外椭偏仪厂商在两年之内降价幅度达到30%以上，产生了显著的社会经济效益，部分结果如图7.13。

图7.13 自主研制的宽光谱广义椭偏仪原理样机(www.xing528.com)

（a） 纳米结构椭偏散射计算测量理论与方法；（b） 自主研制的国产化高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏仪

随着物理、化学、材料等学科的进一步发展，纳米制造的新原理与新方法不断涌现。在主流纳米制造方法之外，鼓励学科交叉、持续资助创新原理与制造方法，是推动纳米制造不断延伸的动力源泉，为占领未来纳米制造制高点提供方法储备与技术支撑。