布图设计权的内容及其行使研究与优化

（一）布图设计权的内容

布图设计权的内容，是指布图设计权人对其登记的布图设计依法享有的权利。根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定可知，布图设计权人享有两项权利，即复制权和商业利用权。

1.复制权

该项权利是指布图设计权利人有权通过光学的、电子学的方式或者其他方式复制其受保护的布图设计。

在此应当注意此处所说的“复制”与《著作权法》上的“复制”所具有的含义并不相同。布图设计权中的复制，通过以下几个步骤实现：（1）将含有布图设计的半导体芯片通过化学方法把半导体材料溶解，使体现在上面的布图设计显露出来，然后用特制的照相机将各个涂层上的布图设计拍摄下来进行放大处理；（2）将照片输入到计算机进行处理（可能不作任何改动，也可能进行适当修改），然后制成布图设计的掩膜版（平面的）；（3）按照集成电路的制作过程将掩膜版上的图形体现在集成电路上。这一过程与其说是复制，倒不如说是实施。因此，我国《集成电路布图设计保护条例》将“复制”定义为“重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为。”

2.商业利用权

它是布图设计权人依法享有的将受保护的布图设计以及含有该受保护的布图设计的集成电路或者含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。

商业利用，一般包括对受保护的布图设计或者含有受保护布图设计的集成电路或者含有此种集成电路的产品所实施的以下集中行为：（1）出售；（2）出租；（3）为商业目的的其他方式的利用，如展览、陈列等；（4）为上述目的而进口；（5）为前述目的而发出要约。对于要约的行为，美国法规定，只有当要约是以书面方式发出，而且是在布图设计固定在半导体芯片产品上以后，才属于商业利用。我国《集成电路布图设计保护条例》将“商业利用”为：“为商业目的的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计，含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的商品的行为。”

从目前各国的集成电路法来看，布图设计权中不包括精神权利的内容。此外，布图设计权人根据集成电路布图设计法取得布图设计权后，并不影响布图设计创作者根据其他的法律对布图设计所享有的权利，如专利权、著作权等。(www.xing528.com)

（二）布图设计权的利用

布图设计权人可以通过以下三种方式行使自己的布图设计权：（1）自己对布图设计进行复制或者商业利用；（2）将布图设计权进行转让；或者（3）许可他人对布图设计进行复制或者商业利用。

1.布图设计权的转让

这种利用方式，就是布图设计权人将其布图设计权转让给他人的法律行为。在转让布图设计权时，权利人只能将它作为一个整体进行转让，不能只转让部分权利，而保留另一部分权利。

按照大多数国家法律的规定，布图设计权转让只能以书面形式进行，转让人与受让人要签订书面协议。在实行布图设计权登记制的国家，布图设计权的转让必须到法律规定的机关办理登记，否则不发生转让效力。我国《集成电路布图设计保护条例》第22条第2款规定，转让布图设计权的，当事人应当订立书面合同，并向国家知识产权局进行登记，由国家知识产权局予以公告。布图设计权的转让自登记之日起生效。

2.布图设计权的许可

这种利用方式是指布图设计权人通过许可使用合同，授权他人利用其布图设计的法律行为。各国法律对这种利用行为所作的规定相对比较简单，我国《集成电路布图设计保护条例》也是如此。