【摘要】：苯环上发生亲电取代反应时，生成的物质是单一的纯净物。如果苯环上已经有取代基，再次发生亲电取代反应时，则亲电取代反应的位围置将有选择性。如果取代基对反应没有影响，则生成物中邻、见间、对位产物的比例应为2∶2∶1。事实上，原有取代基不同，发生亲电取代反应的难易就不同，第二个取代基进入苯环的相对位置也不同。邻、对位定位基：使新引入的取代基主要进入原基团邻位和对位，且活化苯环，使取代反应比苯易进行。
苯环上发生亲电取代反应时，生成的物质是单一的纯净物。如果苯环上已经有取代基，再次发生亲电取代反应时，则亲电取代反应的位围置将有选择性。下面就单取代和双取代分别讲解。
1.单取代苯的亲电取代反应位置
单取代苯有两个邻位、两个间位和一个对位，在发生一元亲电取代反应时，都可接受亲电试剂进攻。如果取代基对反应没有影响，则生成物中邻、见间、对位产物的比例应为2∶2∶1。事实上，原有取代基不同，发生亲电取代反应的难易就不同，第二个取代基进入苯环的相对位置也不同。
（1）邻、对位定位基：使新引入的取代基主要进入原基团邻位和对位（邻对位产物之和大于60%），且活化苯环，使取代反应比苯易进行。
（2）间位定位基：使新引入的取代基主要进入原基团间位，且钝化苯环，使取代反应比苯难进行。
（3）第三类定位基（此类主要是指卤素）：使新引入的取代基主要进入原基团邻位和对位，但使苯环略微钝化，取代反应比苯难进行。
2.双取代苯的亲电取代反应位置
苯环上已有两个取代基时，要引入第三个取代基，有下列几种情况：(https://www.xing528.com)
（1）原有两个基团的定位效应一致。
（2）原有两个取代基同类，而定位效应不一致时，则主要由强的定位基指定新导入基进入苯环的位置。
（3）原有两个取代基不同类，且定位效应不一致时，则新导入基进入苯环的位置由邻对位定位基指定。
【例】
目标物是水杨酸的衍生物时，氨基可以由硝基还原得到。但TM中的氨基位于羟基的间位，无法直接引入，可先在羟基的对位引入氨基作为“幌子”，在它的邻位硝化以后再经重氮盐除去。此合成中的羟基用醚键保护。
合成：
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