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优化SCR闩锁工程:精简方案实现高效运作

时间:2023-06-20 理论教育 版权反馈
【摘要】:图5-32a所示为通过增加基于SCR的低压触发器件的触发电流来避免闩锁,但是其开关电流和保持电流不变。因此,电路正常工作条件下的DHVSCR将不会处于闩锁状态。对采用0.13μm金属硅化物工艺实现的CMOS IC,内部电路的最大电源电压已减小到了1.2V,因此基于SCR的器件本身所固有的闩锁问题就不存在了。与其他ESD保护器件相比,采用基于SCR的开关电压较低的器件具有最高的ESD鲁棒性、最小的版图面积以及不存在闩锁问题,所以是片上ESD保护的最佳选择。

优化SCR闩锁工程:精简方案实现高效运作

为了使基于SCR的器件提供有效ESD保护,需要有足够低的开关电压,但是还应该避免瞬态感应闩锁问题[87]。在CMOS IC处于电路正常工作条件下,有两种方法可以避免基于SCR的开启电压较低的器件被噪声电压误开启。图5-32a所示为通过增加基于SCR的低压触发器件的触发电流来避免闩锁,但是其开关电流和保持电流不变。由于具有较高的触发电流,基于SCR的低触发电压器件,如LVTSCR,对压焊点上的过冲或下冲噪声脉冲就具有足够的噪声裕量。采用0.6μm工艺给LVTSCR结构增加了一个旁路二极管,已成功开发出高电流NMOS触发横向SCR(HINTSCR,High-current NMOS-triggered lateral SCR)[99]器件,将触发电流增加到218.5mA。这种HINTSCR在3V应用时有大于VDD+12V的噪声裕量。另外,还报导有将GGSCR改进为具有高保持电流的SCR(HHI-SCR)器件[89],在0.1μm CMOS工艺中,通过将GGSCR中几千欧姆的外部多晶电阻调整到HHI-SCR中的约仅为10Ω,使其保持电流达到约70mA。

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图5-32 采用基于SCR器件的ESD保护设计中的两种克服闩锁问题的方案 a)增加触发电流 b)增加保持电压以避免基于SCR的器件被噪声脉冲误触发

避免闩锁的另一种方法是增加基于SCR器件的保持电压,使其高于最大VDD电源电压,如图5-32b所示。通过使用外延衬底,SCR器件的保持电压可以增加到避免闩锁问题[116]。但是CMOS晶圆的制造费用将增加。通过将某些元件(如二极管或者SCR器件)串联,其总的串联电压降可以使得体CMOS工艺中基于SCR器件的总保持电压得到提升。通过设计适当的辅助触发,开关电压和电流可以被保持在较低电压水平。在0.35μm金属硅化物CMOS技术下,设计了一种级联LVTSCR[117]结构,增加了保持电压(>VDD),而不会导致其ESD鲁棒性的衰退。另外,据报道,在0.25μm工艺技术下采用层叠STSCR器件设计或采用层叠STSCR器件与层叠二极管链设计的ESD保护电路具有7kV的HBM ESD级别,并且不存在闩锁问题。最近,对单个SCR器件,针对ESD保护(低保持电压)条件和电路正常工作(较高的保持电压)条件动态调整保持电压[102]。据报道,采用动态保持电压SCR(Dynamic holding voltage SCR,DH-VSCR)作ESD保护器件时,具有较高的闩锁免疫力。DHVSCR器件的结构如图5-33a所示。在DHVSCR器件结构中而不是LSCR结构中插入了一个PMOS和一个NMOS。0.25μm CMOS工艺中DHVSCR在电路正常工作条件下和ESD放电条件下的I-V特性如图5-33b所示。PMOS和NMOS的栅电压(Vg1Vg2)在电路正常工作条件下,被偏置到2.5V(VDD),但是在ESD作用时则偏置到0V。电路正常工作条件下DHVSCR的保持电压和保持电流分别为2.8V和172mA。因此,电路正常工作条件下的DHVSCR将不会处于闩锁状态。然而,ESD作用时DHVSCR的保持电压和保持电流分别降为202V和91mA,因此DHVSCR也能将ESD过应力钳位到较低的电压水平,维持较高的ESD级别。通过控制与SCR结构结合在一起的PMOS和NMOS的栅压可以调整DHVSCR的保持电压和保持电流。

然而,随着CMOS按比例缩小技术的发展,按照“电场不变”的要求缩放器件尺寸,CMOS IC的电源电压也随之缩减,同时也减小了功耗。对采用0.13μm金属硅化物工艺实现的CMOS IC,内部电路的最大电源电压已减小到了1.2V,因此基于SCR的器件本身所固有的闩锁问题就不存在了。与其他ESD保护器件相比,采用基于SCR的开关电压较低的器件具有最高的ESD鲁棒性、最小的版图面积以及不存在闩锁问题,所以是片上ESD保护的最佳选择。然而,在这种超薄栅氧的0.13μm的CMOS工艺中,为了保护这种更薄的栅氧,应该提高SCR器件的开启速度以快速泄放ESD过应力电压。对于纳米CMOS工艺中超薄栅氧,采用NAN-SCR[95]和哑元栅结构改善基于SCR的器件的开启速度[92]是较好选择。(www.xing528.com)

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图5-33 a)CMOS工艺实现的动态保持电压SCR(DHVSCR)的器件结构 b)采用0.25μmCMOS工艺的DHVSCR在电路正常工作条件下和ESD作用条件下的I-V特性

必须更好地设计基于SCR器件的开启电压和开启速度,以充分有效地保护输入级中的超薄栅氧,特别是抗拒快速CDM ESD作用。在最大电源电压低于1.2V的纳米CMOS工艺中,基于SCR的器件的开关电压和开启速度将是采用基于SCR器件的片上ESD保护电路整体性能的决定性因素。对纳米CMOS工艺,为了保护I/O电路的超薄栅氧,要求基于SCR的器件必须有足够低的开关电压和足够快的开启速度。

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